臺下的人立馬安靜了下來，目光都集中在了姜凡。

雖然他看上去年齡很小，但他們不得不承認，姜凡臺上的這份氣度，他們做不到！

“大家都知道，光刻機的主要性能指標有：分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長……”

“……”

“光刻機的曝光系統最核心的部件之一是紫外光源。常見光源分為可見光：g線：436nm，紫外光（uv），i線……”

姜凡足足講了一個多小時，才把把設計原理講完！

所有人都被震驚的無以言表，姜凡所講的設計原理，和他們之前研究的完全不一樣。

聽完姜凡的講解，他們隱隱約約的好像明白了，他們為什么研究不出17納米光刻機，因為從根本的研究方向就是錯誤的！

“大家對7納米光刻機，還有什么不明白的地方，現在可以提問！”

“啥？”

“7納米光刻機？”

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