一開始研發(fā)浸潤式光刻機。

    再后來。

    謝武負責浸潤式光刻機，光學鏡頭和制程精度挖掘，杜陽和顧經(jīng)綸則負責研發(fā)，新一代的極紫外光刻機——EUV光刻機。

    三個負責人兵分兩路，

    特別是謝武負責，浸潤式光刻機精度挖掘，幾個月就迭代一次。

    有光刻機就能制造出芯片？

    當然不行！

    還需要芯片設計。

    于是，問題來了。

    從第一款龍芯出爐，性能已經(jīng)超越全球。

    這意味著，最新芯片設計方案，完全是在摸索狀態(tài)，只有黃老最精通。

    光刻機在迭代。

    芯片設計必須跟著迭代。

    可……

    光刻機迭代太快了，黃老只能拼命趕進度，而其他人根本沒辦法，替代她的位置。

    畢竟國產(chǎn)高性能芯片，之前都是她負責設計。

    浸潤式光刻機幾經(jīng)迭代。

    EUV光刻機研發(fā)成功。