張老道：“我認(rèn)為我們應(yīng)該先從IBM那里通過(guò)技術(shù)轉(zhuǎn)移或者合作的方式拿到40納米和32納米的授權(quán)，然后把研發(fā)重心放在32納米上，盡早實(shí)現(xiàn)40納米的量產(chǎn)，這樣既能夠積累客源，也能夠減少公司的運(yùn)營(yíng)壓力。”

    陳平江點(diǎn)點(diǎn)頭，轉(zhuǎn)而問梁老：“您怎么看？”

    梁孟松笑著道：“老張和我的想法一樣。”

    “28納米不嘗試下嗎？”陳平江好奇問。

    “呃……”二老你看看我，我看看你，苦笑一聲。

    “我們能在最短時(shí)間內(nèi)突破32納米就不錯(cuò)了，至于28納米想都不敢想，目前應(yīng)該也只有臺(tái)積電，在研發(fā)上比較領(lǐng)先，有望今年量產(chǎn)。”

    張老也道：“主要是太難了。”

    在這個(gè)時(shí)間節(jié)點(diǎn)上28納米就是最先進(jìn)的，是這個(gè)年代的先進(jìn)制程。

    28納米就是一個(gè)大節(jié)點(diǎn)。與40納米工藝相比，28納米柵密度更高、晶體管的速度提升了約50%，每次開關(guān)時(shí)的能耗則減小了50%。

    陳平江在腦海里想了想措辭：“我之前有了解過(guò)曝光技術(shù)。當(dāng)時(shí)很好奇為什么不通過(guò)多次曝光來(lái)提升光刻的效率和精確度。”

    多重曝光即用多個(gè)掩膜板，在同一塊晶圓上進(jìn)行多次光刻操作，將不同的圖案疊加在一起，形成更細(xì)微的圖案。這相當(dāng)于用多個(gè)膠片拼接出一個(gè)更精細(xì)的圖像。

    梁老笑著道：“看來(lái)平江你的確了解過(guò)，不過(guò)你了解的可能不全面，行業(yè)里面倒是聽過(guò)有兩次曝光的，但多次的話，估計(jì)還真沒有。不是說(shuō)做不到，而是生產(chǎn)出來(lái)的芯片良率過(guò)低，成本過(guò)高，最終得不償失。假設(shè)我們一次曝光的良率和臺(tái)積電相同，都能達(dá)到90%，經(jīng)過(guò)四次曝光后的芯片良率為0.9×0.9×0.9×0.9，也就是65%。”

    “這個(gè)良品率太低了，我們得賣什么樣的價(jià)格給客戶？客戶最終又接受不接受我們的價(jià)格？所以說(shuō)還不如買最新的DUV光刻機(jī)經(jīng)過(guò)一次曝光。”

    陳平江笑著點(diǎn)頭，“我就是隨口說(shuō)說(shuō)。假如先用一個(gè)掩膜板，在晶圓上刻出一個(gè)較粗糙的圖案，然后在圖案上覆蓋一層如氧化硅，再用另一個(gè)掩膜板，在硬質(zhì)材料上刻出一個(gè)較細(xì)致的圖案。最后去掉硬質(zhì)材料和多余的部分，只留下最終想要的圖案。這相當(dāng)于用兩個(gè)膠片分別放大和縮小一個(gè)圖像，再將它們重合在一起。”

    “當(dāng)然了，我們就是瞎聊，我也不懂，二老不要笑話我才好。”

    誰(shuí)知道陳平江剛剛說(shuō)完，張汝京和梁孟松嘴巴張得老大，一副看怪物的模樣看著陳平江。

    “這是別人和你說(shuō)的還是你想到的？”