DUV光刻機(jī)技術(shù)難點(diǎn)還是不少的。

    像是鏡頭制造方面，它要求的是極高的光學(xué)精度，鏡頭設(shè)計(jì)和制造過程中是絕不允許有任何微小的誤差的。

    此外就是光源和光路系統(tǒng)也是一個(gè)大難點(diǎn)。

    DUV光刻機(jī)采用的是準(zhǔn)分子激光作為光源，這個(gè)光源系統(tǒng)還是比較容易搞定的。但光路系統(tǒng)的設(shè)置要求十分的精細(xì)，它要設(shè)置很復(fù)雜的折射光路，來達(dá)到讓光線純化的目的，為了提高分辨率，后來還要采用水浸法，即在投射透鏡和晶圓之間填入去離子水，這就對(duì)系統(tǒng)的穩(wěn)定性和精度有了非常高的要求。

    為了造出合格的DUV光刻機(jī)，張紅衛(wèi)在次元訓(xùn)練空間的實(shí)驗(yàn)室里做了大量的實(shí)驗(yàn)，最終這才搞定了光源系統(tǒng)和光路系統(tǒng)。

    不過，現(xiàn)在，還有一個(gè)難題需要解決，那就是：想要在現(xiàn)實(shí)中造出高精密度的DUV光刻機(jī)，還需要有優(yōu)質(zhì)的先進(jìn)制程的處理器芯片和傳感器。

    這就意味著，張紅衛(wèi)要造出納米級(jí)的單片機(jī)處理器，還要編寫一個(gè)單片機(jī)操作系統(tǒng)。

    這同樣也是一個(gè)大難題。

    在不斷的學(xué)習(xí)和實(shí)踐中，張紅衛(wèi)現(xiàn)在的編程技術(shù)自然是沒有太大的問題的。

    如今，最難的就是造出先進(jìn)制程的納米級(jí)芯片。

    不過，張紅衛(wèi)還有一次把次元空間訓(xùn)練場(chǎng)里實(shí)驗(yàn)室的成果帶回現(xiàn)實(shí)世界的機(jī)會(huì)。

    他決定充分利用這一次的機(jī)會(huì)。

    張紅衛(wèi)就在次元訓(xùn)練空間的實(shí)驗(yàn)室里先自己操作生產(chǎn)出來一些單片機(jī)和傳感器。

    這些單片機(jī)和傳感器足以生產(chǎn)兩三臺(tái)的DUV光刻機(jī)。

    他將它們小心翼翼地裝進(jìn)一個(gè)盒子里，然后隨身攜帶，回到現(xiàn)實(shí)。

    他成功了。

    這些先進(jìn)制程的單片機(jī)和傳感器被他帶到了現(xiàn)實(shí)中來。

    張紅衛(wèi)簡(jiǎn)直欣喜若狂。