并且除此之外，我們的晶圓工藝也需要提升，否則芯片良品率會差許多。”

    有這兩位開口，其他人也是群策群力，提供著自己的情報。

    “以前我聽西工大的教授說起過，這兩種光刻機的光路系統(tǒng)設計都非常不同。

    EUV光刻機利用的是光的反射原理，并且內部必須是真空操作，不能夠有空氣和雜物。而DUV光刻機主要利用光的折射原理，透鏡和晶圓之間可以采用不同的介質來改變光刻性能，我們大夏聯(lián)邦已經有光刻機研發(fā)機構，快要突破DUV光刻機的光源設備、透鏡工藝了。”

    “你說的是上滬市的那個上滬微電子？”