光刻膠的成膜性能，主要應(yīng)用于剛性或柔性物體表面的微紋，對基材具有良好的潤濕性、優(yōu)良的成膜性能、厚度均勻及無氣孔缺陷，容易成膜。

    壓印性能的標(biāo)準(zhǔn)則是因?yàn)樵趬河∵^程中應(yīng)用的光刻膠與傳統(tǒng)的曝光法有很大不同，如果硬度太大，會引起壓印力的增加，很可能會導(dǎo)致模板的損壞。

    硬度及粘度、固化速率、界面特性以及抗刻蝕能力也都是重中之重。

    畢竟光刻膠的主要用途是作為防蝕劑來轉(zhuǎn)移微圖像，這一過程需要有選擇地刻蝕，也就是在沒有光刻膠保護(hù)的零件上進(jìn)行刻蝕，有光刻膠的部分因其耐刻蝕能力而受到保護(hù)，從而達(dá)到圖形傳遞的目的。

    每一個(gè)項(xiàng)目的參數(shù)都至關(guān)重要，每一個(gè)小項(xiàng)目的負(fù)責(zé)人以及實(shí)驗(yàn)人員無一不是翹首以盼，希望自己負(fù)責(zé)的項(xiàng)目可以通過。

    但在沒有將所有項(xiàng)目公布完之前，沒有一位實(shí)驗(yàn)員大聲慶祝，因?yàn)樵谶@些時(shí)日的攻克難題當(dāng)中，他們早就已經(jīng)成為了戰(zhàn)友。

    這是一場沒有硝煙，只有材料與光學(xué)的戰(zhàn)爭。

    隨著項(xiàng)目測試的成績一項(xiàng)一項(xiàng)被周瑜報(bào)出來，等到最后周瑜說出設(shè)備的結(jié)論成果時(shí)：“適用于45納米制程工藝……”

    嘩啦啦的掌聲和略顯壓抑的吶喊聲頓時(shí)響起。

    但是僅僅就這么幾秒鐘，實(shí)驗(yàn)室內(nèi)眾人都趕忙停下了幅度過大的動作。

    雖然是在實(shí)驗(yàn)室的公共區(qū)域，這里沒有什么精密儀器，但是眾人還是下意識想保護(hù)儀器設(shè)備的穩(wěn)定狀態(tài)。

    畢竟在半導(dǎo)體領(lǐng)域，一個(gè)大分貝噪音都有可能影響到實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

    但是激烈的慶祝不行，走動之間，握手、相擁慶祝卻是沒有禁止。

    呼……

    楊剛省深深的呼吸了幾次，在整個(gè)實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目當(dāng)中，他的壓力是最大的。

    畢竟當(dāng)初他從臺積電離開之后，雖然已經(jīng)安穩(wěn)度過競業(yè)協(xié)議規(guī)定的時(shí)間，但是卻還要保證在整個(gè)試驗(yàn)的過程中，不能將臺積電獨(dú)有的專利技術(shù)拿出來，所以每次都要小心翼翼的進(jìn)行探索，每天晚上睡覺前，他本人甚至還要在腦海里復(fù)盤白天的工作，檢討每一處細(xì)節(jié)。

    周瑜在一旁，拍了拍楊剛省的肩膀。

    “辛苦了，有了這個(gè)開端，我們大夏聯(lián)邦也能夠有真正自主的半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)了，假以時(shí)日，我們也能做到全球頂尖。”